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钨铜合金表面怎么进行无纹路抛光处理

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发表于 2018-5-15 10:53:20 | 显示全部楼层 |阅读模式
        钨铜产品(含钨90%,铜10%,钨粉压制成型后将铜融化渗入坯料),硬度约220-240HB,进行精雕表面或者研磨表面处理后表面粗糙度Ra可以达到0.4以下,但是在20倍显微镜下会有明显加工纹路或者浅划伤,不能进行震动或者滚筒抛光(会碰伤),怎么解决该类产品的表面问题,求大神赐教。。5 a+ x- \7 l) C0 e
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发表于 2018-5-15 11:40:00 | 显示全部楼层
没有产品形状的都是耍流氓
发表于 2018-5-15 13:46:26 | 显示全部楼层
1.理论上通过机械抛光获得的表面粗糙度最小,对于W70Cu30合金可达到0.044 μm,电解抛光次之,机械磨光最大;+ g: M5 X2 P3 Z  @$ V! q( V
2.硫酸-磷酸系适用于W90Cu10 的电解抛光, 初步确定了电解抛光的最佳工艺参数为:硫酸与磷酸体积比2 ∶7 、温度为45 ~55 ℃、抛光时间4 ~ 6 min 、电流密度15 ~ 25 A/dm2 。经电解抛光, 试样表面相对反射率高达90 %以上, 原始表面的微小的划痕可以完全消除。
发表于 2018-5-15 13:56:02 | 显示全部楼层
好整,看形状与公差要求。无图无真相
 楼主| 发表于 2018-5-15 15:01:01 | 显示全部楼层
一朵娇粉嫩的花 发表于 2018-5-15 11:403 `( K* E/ l9 R6 I- Q, b
没有产品形状的都是耍流氓

7 O1 y3 v1 K' a3 U3 Y2 p这是产品 的基本要求

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 楼主| 发表于 2018-5-15 15:02:45 | 显示全部楼层
老烟枪 发表于 2018-5-15 13:56: Q: P8 J3 C3 Y( Y, k9 d0 \
好整,看形状与公差要求。无图无真相
2 A* G' y9 i3 a) a9 Y: p
要求表面无纹路5 O& ]0 M- R. K

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 楼主| 发表于 2018-5-15 16:11:52 | 显示全部楼层
xuzele 发表于 2018-5-15 13:46$ y5 [" A6 }2 V# g' x& d
1.理论上通过机械抛光获得的表面粗糙度最小,对于W70Cu30合金可达到0.044 μm,电解抛光次之,机械磨光最大 ...

) f) P* b6 l; E5 O6 e刚才试过你这个方法了,但是没反应,倒是316不锈钢可以抛光! o: D$ a  y. ]6 N9 x
发表于 2018-5-15 16:36:51 | 显示全部楼层
xushunqiang 发表于 2018-5-15 16:11/ G8 {2 O' H. U. I3 [1 B
刚才试过你这个方法了,但是没反应,倒是316不锈钢可以抛光
6 U& O# H' Y$ B
你试的电解抛光吗,没反应可能是因为钨铜表面必须预加工到比较高的光洁度,电解抛光才能获得较高的抛光质量,抛光前要除油去氧化处理,电解液要加入聚乙二醇、硫脲、丙三醇等作为添加剂。
2 g' e! z4 ^8 ?( H# S$ ^! G- P
+ j; _3 Z6 U" x! q# I
 楼主| 发表于 2018-5-15 18:22:10 | 显示全部楼层
xuzele 发表于 2018-5-15 16:36
7 C, B" t( I* s# [, u' C你试的电解抛光吗,没反应可能是因为钨铜表面必须预加工到比较高的光洁度,电解抛光才能获得较高的抛光质 ...

0 d& E9 x  S% |5 j: [0 T抛光前Ra小于0.15,是用的电解法,聚乙二醇聚合度多少呢?方便告知这三种添加剂的加入量吗?; W% |% X& |& c% [7 K  c& x

* s+ }9 u! @0 m! b
发表于 2018-5-15 18:44:24 | 显示全部楼层
化学机械抛光,平面研磨抛光,lapping,我说的这个三个名词其实是同一种抛光工艺,可以做到完全无划痕
, _# \3 }. D3 n* A
/ m* g9 c# D. o+ ^) I但是价格不会很便宜,你可以上网搜索下能加工的供应商7 B! Y" \" \. ^7 j7 b8 S% m- J$ L

3 h% t+ x& Z1 \. Y$ M4 D不会提醒一下,看你电镀要求是镍0.5微米,粉末压制成型的工件使用铜来填充 但是肯定还是有间隙,注意电镀后吐酸问题,这个问题可能比你抛光还难解决
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