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钨铜合金表面怎么进行无纹路抛光处理

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发表于 2018-5-15 10:53:20 | 显示全部楼层 |阅读模式
        钨铜产品(含钨90%,铜10%,钨粉压制成型后将铜融化渗入坯料),硬度约220-240HB,进行精雕表面或者研磨表面处理后表面粗糙度Ra可以达到0.4以下,但是在20倍显微镜下会有明显加工纹路或者浅划伤,不能进行震动或者滚筒抛光(会碰伤),怎么解决该类产品的表面问题,求大神赐教。。% G" O8 `$ f6 P) b1 \
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发表于 2018-5-15 11:40:00 | 显示全部楼层
没有产品形状的都是耍流氓
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发表于 2018-5-15 13:46:26 | 显示全部楼层
1.理论上通过机械抛光获得的表面粗糙度最小,对于W70Cu30合金可达到0.044 μm,电解抛光次之,机械磨光最大;& x; K& c0 D, ~/ V+ @
2.硫酸-磷酸系适用于W90Cu10 的电解抛光, 初步确定了电解抛光的最佳工艺参数为:硫酸与磷酸体积比2 ∶7 、温度为45 ~55 ℃、抛光时间4 ~ 6 min 、电流密度15 ~ 25 A/dm2 。经电解抛光, 试样表面相对反射率高达90 %以上, 原始表面的微小的划痕可以完全消除。
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发表于 2018-5-15 13:56:02 | 显示全部楼层
好整,看形状与公差要求。无图无真相
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 楼主| 发表于 2018-5-15 15:01:01 | 显示全部楼层
一朵娇粉嫩的花 发表于 2018-5-15 11:40
2 A( ?* E. ?" B$ S没有产品形状的都是耍流氓
- q" N% p& ^& {! N( V# {1 [2 T
这是产品 的基本要求

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 楼主| 发表于 2018-5-15 15:02:45 | 显示全部楼层
老烟枪 发表于 2018-5-15 13:56$ F, A  a$ T; C
好整,看形状与公差要求。无图无真相
) {5 E+ i. V1 P3 U- B2 ~, G( O
要求表面无纹路
( y/ t4 i2 x) G" `! K# O/ ]! E

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 楼主| 发表于 2018-5-15 16:11:52 | 显示全部楼层
xuzele 发表于 2018-5-15 13:465 i0 |8 {4 X9 v0 |5 z6 Q" J" s
1.理论上通过机械抛光获得的表面粗糙度最小,对于W70Cu30合金可达到0.044 μm,电解抛光次之,机械磨光最大 ...
+ e) F+ T" v* V2 @, c
刚才试过你这个方法了,但是没反应,倒是316不锈钢可以抛光- V' l4 V! O' n: E- U# m' e
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发表于 2018-5-15 16:36:51 | 显示全部楼层
xushunqiang 发表于 2018-5-15 16:110 K4 z$ ^4 y" R8 [
刚才试过你这个方法了,但是没反应,倒是316不锈钢可以抛光

  s; C. M9 }3 R) j" r4 `, u6 ]你试的电解抛光吗,没反应可能是因为钨铜表面必须预加工到比较高的光洁度,电解抛光才能获得较高的抛光质量,抛光前要除油去氧化处理,电解液要加入聚乙二醇、硫脲、丙三醇等作为添加剂。7 E2 Q2 U) m# d' l, L, y* `
$ r$ H3 J- |9 D; W8 Q* D, P
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 楼主| 发表于 2018-5-15 18:22:10 | 显示全部楼层
xuzele 发表于 2018-5-15 16:36
$ R  t; p9 x/ K8 U* _9 X* t你试的电解抛光吗,没反应可能是因为钨铜表面必须预加工到比较高的光洁度,电解抛光才能获得较高的抛光质 ...

$ R2 T% K4 @/ w: m  ?' W抛光前Ra小于0.15,是用的电解法,聚乙二醇聚合度多少呢?方便告知这三种添加剂的加入量吗?1 o8 f: ~: a2 X5 t5 H$ T
2 Q$ r# s2 F$ G+ d
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发表于 2018-5-15 18:44:24 | 显示全部楼层
化学机械抛光,平面研磨抛光,lapping,我说的这个三个名词其实是同一种抛光工艺,可以做到完全无划痕5 q5 [: \; Y9 C. P

8 k9 G$ h3 Y7 u* `% f但是价格不会很便宜,你可以上网搜索下能加工的供应商5 P  [! ?' R, I+ V& p: g3 I

3 }+ D: B0 \6 u; q6 c不会提醒一下,看你电镀要求是镍0.5微米,粉末压制成型的工件使用铜来填充 但是肯定还是有间隙,注意电镀后吐酸问题,这个问题可能比你抛光还难解决
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