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钨铜合金表面怎么进行无纹路抛光处理

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发表于 2018-5-15 10:53:20 | 显示全部楼层 |阅读模式
        钨铜产品(含钨90%,铜10%,钨粉压制成型后将铜融化渗入坯料),硬度约220-240HB,进行精雕表面或者研磨表面处理后表面粗糙度Ra可以达到0.4以下,但是在20倍显微镜下会有明显加工纹路或者浅划伤,不能进行震动或者滚筒抛光(会碰伤),怎么解决该类产品的表面问题,求大神赐教。。
# E% h/ [( ?4 Q1 {  ?
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发表于 2018-5-15 11:40:00 | 显示全部楼层
没有产品形状的都是耍流氓
发表于 2018-5-15 13:46:26 | 显示全部楼层
1.理论上通过机械抛光获得的表面粗糙度最小,对于W70Cu30合金可达到0.044 μm,电解抛光次之,机械磨光最大;1 ]% f* C% u: f8 L7 X, k
2.硫酸-磷酸系适用于W90Cu10 的电解抛光, 初步确定了电解抛光的最佳工艺参数为:硫酸与磷酸体积比2 ∶7 、温度为45 ~55 ℃、抛光时间4 ~ 6 min 、电流密度15 ~ 25 A/dm2 。经电解抛光, 试样表面相对反射率高达90 %以上, 原始表面的微小的划痕可以完全消除。
发表于 2018-5-15 13:56:02 | 显示全部楼层
好整,看形状与公差要求。无图无真相
 楼主| 发表于 2018-5-15 15:01:01 | 显示全部楼层
一朵娇粉嫩的花 发表于 2018-5-15 11:40/ F' g* A1 ~2 p- }7 D4 d5 t
没有产品形状的都是耍流氓
: @9 G- ?. C: p8 ~$ U
这是产品 的基本要求

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 楼主| 发表于 2018-5-15 15:02:45 | 显示全部楼层
老烟枪 发表于 2018-5-15 13:56( }+ n' O$ V- e. V3 X5 Y
好整,看形状与公差要求。无图无真相

" ]. q) K" p& n& P) G要求表面无纹路# ?6 X$ p4 U* z: h$ a4 B

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 楼主| 发表于 2018-5-15 16:11:52 | 显示全部楼层
xuzele 发表于 2018-5-15 13:46" L7 v+ E3 h/ [8 I3 n- W, Z- F. J
1.理论上通过机械抛光获得的表面粗糙度最小,对于W70Cu30合金可达到0.044 μm,电解抛光次之,机械磨光最大 ...

( L% v- A( ?# I- L, `0 ]$ `& K; A# a刚才试过你这个方法了,但是没反应,倒是316不锈钢可以抛光
8 A" B* A$ P# q+ {7 c
发表于 2018-5-15 16:36:51 | 显示全部楼层
xushunqiang 发表于 2018-5-15 16:11: e% l5 p' k% }5 ]  z" Q4 l  V
刚才试过你这个方法了,但是没反应,倒是316不锈钢可以抛光

) ?2 f9 r9 n3 _0 z) A7 T% ?+ g你试的电解抛光吗,没反应可能是因为钨铜表面必须预加工到比较高的光洁度,电解抛光才能获得较高的抛光质量,抛光前要除油去氧化处理,电解液要加入聚乙二醇、硫脲、丙三醇等作为添加剂。
/ z) G# \" B" ^: M8 V$ k" ^  Y4 S$ W  D" s2 ]  v. U+ r
 楼主| 发表于 2018-5-15 18:22:10 | 显示全部楼层
xuzele 发表于 2018-5-15 16:367 ^' V! h* ]% m: K/ \) p
你试的电解抛光吗,没反应可能是因为钨铜表面必须预加工到比较高的光洁度,电解抛光才能获得较高的抛光质 ...

+ Q- F7 f! E3 ]( }) a抛光前Ra小于0.15,是用的电解法,聚乙二醇聚合度多少呢?方便告知这三种添加剂的加入量吗?
: `5 G! M% A, T2 \; R
3 O4 X3 i  O1 O- V' S9 A
发表于 2018-5-15 18:44:24 | 显示全部楼层
化学机械抛光,平面研磨抛光,lapping,我说的这个三个名词其实是同一种抛光工艺,可以做到完全无划痕
" J4 |: @& \5 l, Y/ h+ n
& |( ]/ K& A6 R/ K# h1 k但是价格不会很便宜,你可以上网搜索下能加工的供应商6 G& q; L- Z1 j) q( `$ p

( G2 `0 r% ?1 ^- H不会提醒一下,看你电镀要求是镍0.5微米,粉末压制成型的工件使用铜来填充 但是肯定还是有间隙,注意电镀后吐酸问题,这个问题可能比你抛光还难解决
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