抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。 [2]
$ q1 E5 G6 A. A6 h多晶金刚石抛光液1 c3 B# f h- H' T
多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。+ i8 g0 R8 F6 `" R6 }# Y$ l
主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。, P* w' N8 K, F" M' W" [, K9 X
氧化硅抛光液
# |( q+ o/ U/ p/ n! P氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。' U; |( O e, D) i, K( f7 |
广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
! M7 m7 x1 z( ^5 M9 I' B氧化铈抛光液' H' U2 r+ j) L5 V% b" K
氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。8 C0 q$ W% ^7 }+ j
适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。/ ~9 P) K: D1 h. g7 F
氧化铝和碳化硅抛光液' |. L( }3 N: o, {
是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。6 g" \. x n/ p8 R* K
主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。 |
发表于 2020-12-9 16:44:59
& L$ A" I! ^5 i$ U3 s
