baimingrun 发表于 2008-9-18 23:10:33

过程设备设计与选型基础

过程设备设计与选型基础

baimingrun 发表于 2008-9-18 23:14:20

过程设备设计与选型基础

过程设备设计与选型基础

baimingrun 发表于 2008-9-18 23:16:15

过程设备设计与选型基础

过程设备设计与选型基础。3

baimingrun 发表于 2008-9-18 23:18:01

过程设备设计与选型基础4

过程设备设计与选型基础.4

baimingrun 发表于 2008-9-18 23:19:08

过程设备设计与选型基础5

过程设备设计与选型基础.5

baimingrun 发表于 2008-9-18 23:20:29

过程设备设计与选型基础

过程设备设计与选型基础封面

baimingrun 发表于 2008-9-18 23:22:37

说明

共5个压缩包,下载后全部选中同时解压就好了。

wcyxy 发表于 2010-12-1 23:23:45

这好的东家,拼了倾家荡产也要下了~

wcyxy 发表于 2010-12-1 23:31:56

拼了也没权下,晕了,那高的权限 ~

shagti 发表于 2010-12-2 22:25:33

大平台硅片检测金相显微镜简介:
特点: u
最先进的光学设计,无限远光学系统,得到优质的光学成像质量u
平场无限远超长工作距离物镜u
超大而平坦的视场,视场直径达到ф26²
50W卤素灯配合科勒照明系统,得到明亮而均匀的照明。²
XY移动调节手轮可左右互换。载物台行程40mm,XY移动范围55×80mm。²
在显微镜内装有中性滤色片和色校正滤色片。只需用手指拉动底座旁的拉杆,就能迅速方便地将滤色片插入或撤出光路。 规格: 光学系统:UIS无限远光学系统。物      镜:平场无限远超长工作距离物镜
4×(29.4 mm)、10×(16.0 mm)、
20×(10.5 mm)、40×(5.4mm)。目         镜:超大视场的高眼点平场目镜10×(φ26 )、15×(φ17)(选购)。观察镜筒:φ26视场,三目镜筒,倾角为30°,1/2″CCD适配镜,标准C接口。照明系统:反射科勒照明系统,偏光装置,12V50W卤素灯,数显电压表,内装式滤色片(黄、绿、蓝、中性)。调焦系统:粗微动同轴,行程40 mm。载 物 台:XY移动范围55×80 mm,右手(或左手)低位同轴手轮。转 换 器:六孔转换器。电源系统:90~260V/50~60Hz 选配: 1.12V100W卤素灯2.平场无限远超长工作距离物镜
50×(9.09mm)
60×(7.01mm)
100×(6.38mm)    3.专业数码相机接口或CCD接口上海也鸿光学实验设备有限公司电话:021-60513687、20904209
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